ジャン博士の新しいアニーリング工程後の処理により結晶粒界が融着している (IMAGE)
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アニーリング工程後のMAPbI3ペロブスカイトフィルムにおける結晶粒界(a)、DMF溶媒を使用したアニーリング(b)、アニーリング工程後のメチルアミン処理の比較。アニーリング工程後のメチルアミン処理においては、結晶粒界が融着し、境界がより明瞭でなくなっており、最も改善が見られている。
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Yan Jiang
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